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数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强
发布时间:2023-11-03        浏览次数:9        返回列表
数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强

数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强

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数控机械设备1734-OE2V抗干扰能力强

 粉末ALD设备

  应用领域:锂电池粉末或极片,金属粉末,荧光粉粉末等粉体包覆。

  目前已有设备:GM系列百克级粉末ALD系统、KG系列公斤级粉末ALD系统,即将推出吨级粉末ALD系统

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如图:GM克级粉末ALD系统


  Cbatch系列ALD

  连续通过式多腔体结构,全自动化传输,主要用于大批量生产,现已用于LED行业。

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超高真空设备

产品:QBT-J(四腔电子束蒸发系统)\QBT-P(两腔溅射系统)\QBT-4(两腔热蒸发系统)\QBT-A(等离子体增强ALD系统)

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如图:QBT-J全自动四腔超高真空双倾角镀膜系统

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如图:普发真空HiPace 2300涡轮分子泵用于超高真空系统

 

普发真空提供一站式真空解决方案,助力厦门韫茂实现产品功能

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  HiScroll涡旋泵

  静音、高效、无油

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  A4系列整体式干泵

  高能效,温度控制范围广,耐腐蚀材料工艺泵,智能监控系统

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  HiPace系列涡轮分子泵

  高压缩比,抽速高,安全稳定,体积小巧


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    PKR 361全量程真空计

  测量范围广,极低的外部磁场,试用范围广

 

  韫茂科技总经理赵茂生先生表示道:“材料科技的进步推动着科研、创新和生产。面对日益提升的性能需求,微观层面的技术显得愈发重要,甚至有可能帮助突破传统技术的瓶颈。真空技术所保障的纯净环境对微观精密作业是不可或缺的。我们很高兴能与普发真空保持合作,以其**丰富的真空设备来帮助我们的产品实现更加优异的性能,进而为更多科研机构和院校,以及下游产业等单位服务,助其攻克更多高精尖技术,提升产品性能,惠及更多用户。我们更期待藉此实现革命性的突破,终造福全人类。希望普发真空能为我们带来更多的产品和技术,与我们携手前行。”

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